곰손의 팜

에스앤에스텍은 반도체 및 평판디스플레이(FPD, Flat Panel Display) 제조공정에 사용되는 블랭크마스크 제조와 판매를 주된 사업 활동으로 영위하고 있습니다.​

​

블랭크마스크는 반도체 및 디스플레이 노광 공정에서 핵심적으로 사용되는 부품입니다. 

​

이해를 돕기 위해 필름 사진에 비유하자면 촬영 전 필름이 블랭크마스크이고, 촬영 후 형상이 전사된 필름이 포토마스크입니다.

​

블랭크마스크는 포토마스크의 원재료로서 석영유리 기판 위에 금속박막 필름이 증착되고, 그 위에 감광액이 도포되는 형태입니다. 이를 이용하여 노광, 식각, 검사, 수리와 같은 일련의 패턴 형성 과정을 통해 포토마스크가 완성됩니다. 

​

세계 1위 EUV 블랭크마스크 제조사는 일본 호야(HOYA)로 세계시장 점유율 약 70%입니다. 2위는 일본 아사히글라스(AGC)이며 세계시장 점유율은 약 20%입니다. 

​

노광 공정은 반도체 제조 과정에서 중요한 단계 중 하나입니다. 

​

이 과정은 웨이퍼에 회로 패턴을 새기는 작업을 수행합니다. 

마치 사진을 찍는 것과 비슷합니다. 

 

노광 공정 순서

 

웨이퍼 세정 : 웨이퍼 표면의 불순물을 제거하기 위해 화학적으로 세척

감광액 도포 : 액화된 포토레지스트(감광액)를 웨이퍼에 도포

소프트 베이크 : 웨이퍼를 가열하여 남은 유기 용매를 제거하고 접착력을 향상시킴

정렬 및 노광 : 노광 장비 내의 마스크를 정확하게 배열한 후 빛을 웨이퍼에 조사하여 회로 패턴을 형성

노광 후 열처리 : 노광 후 고온에서 열처리하여 PR(포토레지스트)의 접착력을 높임

현상 : 웨이퍼 표면의 유기물을 제거

하드 베이크 : 고온에서 열처리하여 내화학성과 내열성을 향상

포토 공정 후 검사 : 회로 패턴의 정확성을 확인

 

노광 공정은 반도체 제조에서 미세한 회로 패턴을 만들기 위해 필수적인 기술로, 미래 반도체의 성능과 용량에 영향을 미치는 중요한 단계입니다.

 

---

에스앤에스텍 주가와 수출금액 상관관계

​

에스앤에스텍 주가와 수출금액 상관관계 분석을 하면 '어느 정도 관계가 있다​​'라는 결과를 얻을 수 있습니다. 

 

상관계수를 r이라고 할 때​

|r|< 0.3 이면 관계가 적다. ​

0.3<|r|<0.7 이면 어느 정도 관계가 있다. ​​

0.7<|r|<1.0 이면 관계가 크다. 

 

---

에스앤에스텍 주가와 공장 가동률 상관관계

​

에스앤에스텍 주가와 공장 가동률 상관관계 분석을 하면 '관계가 크다​​'라는 결과를 얻을 수 있습니다. 

​

2024년 1분기 공장 가동률 저하로 4월, 5월 수출금액은 3월 대비 감소할 것으로 예상합니다.

​

단기간 주가는 부진하겠지만, 에스앤에스텍 용인 공장 3분기 가동되면 매출은 우상향할 것으로 예상합니다.